CVD – Chemical Vapour Deposition, způsob nanášení tenkých vrstev. Proces probíhá za vysoké teploty, podklad je vystaven působení prekurzoru, který reaguje s povrchem, čímž vzniká požadovaný materiál. Vedlejší produkty se odstraňují proudem plynu nebo unikají do komory se sníženým tlakem.

Zpět  Glosář

---